LiAlO2 Substrate

Tha an substrate LiAlO2 a’ toirt iomradh air substrate dèanta de lithium aluminium oxide (LiAlO2).Tha LiAlO2 na todhar criostalach a bhuineas don bhuidheann fànais R3m agus tha structar criostail triantanach aige.

Chaidh substrates LiAlO2 a chleachdadh ann an grunn thagraidhean, a’ toirt a-steach fàs film tana, sreathan epitaxial, agus heterostructures airson innealan dealanach, optoelectronic, agus photonic.Air sgàth na feartan corporra agus ceimigeach sàr-mhath aige, tha e gu sònraichte freagarrach airson leasachadh innealan semiconductor bandgap farsaing.

Tha aon de na prìomh thagraidhean aig substrates LiAlO2 ann an raon innealan stèidhichte air Gallium Nitride (GaN) leithid Transistors Gluasaid Àrd Electron (HEMTs) agus Diodes Emitting Light (LEDs).Tha an mì-chothromachadh lattice eadar LiAlO2 agus GaN an ìre mhath beag, ga fhàgail na fho-strat iomchaidh airson fàs epitaxial de fhilmichean tana GaN.Tha substrate LiAlO2 a’ toirt seachad teamplaid àrd-inbhe airson tasgadh GaN, a’ leantainn gu coileanadh inneal nas fheàrr agus earbsachd.

Bithear a’ cleachdadh fo-stratan LiAlO2 cuideachd ann an raointean eile leithid fàs stuthan ferroelectric airson innealan cuimhne, leasachadh innealan piezoelectric, agus saothrachadh bataraidhean stàite cruaidh.Tha na feartan sònraichte aca, leithid giùlan teirmeach àrd, deagh sheasmhachd meacanaigeach, agus seasmhach dielectric ìosal, a’ toirt buannachdan dhaibh anns na tagraidhean sin.

Ann an geàrr-chunntas, tha substrate LiAlO2 a’ toirt iomradh air substrate dèanta de lithium aluminium oxide.Bithear a’ cleachdadh fo-stratan LiAlO2 ann an grunn thagraidhean, gu sònraichte airson fàs innealan stèidhichte air GaN, agus leasachadh innealan dealanach, optoelectronic agus photonic eile.Tha feartan corporra agus ceimigeach ion-mhiannaichte aca a tha gan dèanamh freagarrach airson filmichean tana agus heterostructures a thasgadh agus a leasaicheas coileanadh innealan.